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         Track System (LT-AS Series)

         시스템 특장점

            Spin Coating & Develope System
            Auto Loading & Auto Process
            Wafer, Glass 공정에 적합
            Chemical Dispense용 Scan Arm - 2 Set
            다양한 Unit 구성 가능 (Max 3 Spin Unit)
              - Spin Coater, Developer, Hot Plate, Cool Plate 구성
            5000rpm의 회전 (Option : 7,000rpm)
            PC Control & 15" Touch Monitor
            편리한 User Interface, Scheduler,
            Wafer별 독립 Recipe적용 가능
            Data Logging, Alarm 관리

        적용 분야

            연구소, 기업체 연구. 제품 생산용
            반도체, LED, MEMS, 바이오소자등 개발 연구용
            Wafer, Glass, Mask등의 Coating, 현상,에칭공정

        시스템 Specification